半导体专用兆声波清洗机
第 27 届中国国际新材料博览会展出的半导体专用兆声波清洗机，是破解先进制程清洗痛点的核心自研装备，收获大量芯片制造企业高度认可。当前 3nm 及以下先进工艺中，晶圆表面 0.1 微米级纳米颗粒、光刻胶残留极易造成器件短路，传统超声波清洗存在空化冲击损伤精密晶格结构的难题。昆山超声兆声波清洗机搭载 500kHz-5MHz 宽频兆声发生器，依靠温和可控的微射流效应，颗粒去除率超 99.9%，极低空化强度完美保护 FinFET、GAA 微型精密结构，真正实现 “高效去污、零晶格损伤” 双重目标。设备支持多组工艺参数储存、全自动恒温脱气、静音运行，适配晶圆 CMP 后清洗、TSV 通孔清洁、芯片封装前精密处理全流程，现场多家半导体厂商预约样机测试，期待以此提升晶圆良率、替代进口清洗设备。
KQ-500MSE兆声波清洗机
1、操控：全新研发生产的高频超声波清洗系列，采用7寸触摸屏控制，可设置9组用户程序，操作简便，零工作噪音，实现静态超声。
2、原理：高频超声能使被清洗件表面附近形成速度梯度很大且极薄的声学边界层，其杂质粒子受到液体兆赫频的震荡作用从器件表面脱落，能够清洗掉元器件表面微米、亚微米级的杂质颗粒，实现超精密清洗过程。
3、频率优势：频率涵盖了0.5MHz、1.0MHz、1.7MHz、3.0MHz、5.0MHz多种频率，高频超声波清洗过程由于极低的空化效应，对被清洗件表面不会产生损伤，能够有效解决精密元器件清洗后造成的腐蚀或损伤破坏等现象。
4、应用方向：被广泛应用于半导体制造领域，并且其除了有清洗作用外，还可以在化学机械抛光、显影、除胶、金属剥离、刻蚀等关键工艺中起到重要作用。
